江蘇凈化工程之關(guān)于潔凈室的濕度_技術(shù)文獻

江蘇凈化工程之關(guān)于潔凈室的濕度

來(lái)源：無(wú)錫易純凈化　日期：2018/12/21 13:24:07　人氣：204返回

潔凈室相對濕度控制不好，就有可能使潔凈室總體表現下降，而且還會(huì )帶來(lái)以下這些一系列的影響。

　　1、細菌生長(cháng)。細菌和其他生物污染(霉菌，病毒，真菌，螨蟲(chóng))在相對濕度超過(guò)60%的環(huán)境中可以活躍地繁殖。一些菌群在相對濕度超過(guò)30%時(shí)就可以增長(cháng)。而相對濕度處于40%至60%的范圍之間時(shí)，可以使細菌的影響以及呼吸道感染降至最低。所以無(wú)塵車(chē)間的相對濕度需要控制在一定范圍。

　　2、相對濕度控制不好，容易造成潔凈室里的金屬腐蝕。很多化學(xué)反應的速度，包括腐蝕過(guò)程，將隨著(zhù)相對濕度的增高而加快。所有暴露在無(wú)塵車(chē)間周?chē)諝庵械谋砻娑己芸斓乇桓采w上至少一層單分子層的水。當這些表面是由可以與水反應的薄金屬涂層組成時(shí)，高濕度可以使反應加速。一些金屬，例如鋁，可以與水形成一層保護型的氧化物，并阻止進(jìn)一步的氧化反應；另一種金屬，例如氧化銅，是不具有保護能力的。在高濕度的環(huán)境中，銅制表面更容易受到腐蝕。

　　3、潔凈室相對濕度控制不好會(huì )出現靜電荷。當相對濕度超過(guò)50%時(shí)，靜電荷開(kāi)始迅速消散，但是當相對濕度小于30%時(shí)，它們可以在絕緣體或者未接地的表面上持續存在很長(cháng)一段時(shí)間。潔凈室相對濕度在35%到40%之間可以作為一個(gè)令人滿(mǎn)意的折中，半導體無(wú)塵車(chē)間一般都使用額外的控制裝置以限制靜電荷的積累。

　　4、吸水性。相對濕度控制不好，對潔凈室吸水性產(chǎn)出一定的影響。

　　5、水汽冷凝。在相對濕度較高的潔凈室環(huán)境中，濃縮水形的毛細管力在顆粒和表面之間形成了連接鍵，可以增加顆粒與硅質(zhì)表面的黏附力。這種效應稱(chēng)為凱爾文濃縮，就是當相對濕度小于50%時(shí)并不重要，但當相對濕度在70%左右時(shí)，就成為顆粒之間黏附的主要力量。

　　6、潔凈車(chē)間的濕度在40%至60%的范圍同樣也是人類(lèi)感覺(jué)舒適的適度范圍。如果潔凈車(chē)間濕度過(guò)高會(huì )使人覺(jué)得氣悶，而濕度低于30%則會(huì )讓人感覺(jué)干燥，皮膚皸裂，呼吸道不適以及情感上的不快，從而影響工作。

　　7、潔凈車(chē)間光刻的退化。在半導體潔凈車(chē)間中最迫切需要適度控制的是光刻膠的敏感性。由于光刻膠對相對濕度極為敏感的特性，它對相對濕度的控制范圍的要求是最嚴格的。相對濕度和溫度對于光刻膠穩定性以及精確的尺寸控制都是很關(guān)鍵的。甚至是在恒溫條件下，光刻膠的粘性將隨著(zhù)相對濕度的上升而迅速下降。當然，改變粘性，就會(huì )改變由固定組分涂層形成的保護膜的厚度。

　　此外，在高的相對濕度環(huán)境下，由于水分的吸收，使烘烤循環(huán)后光刻膠膨脹加重。光刻膠附著(zhù)力同樣也可以受到較高的相對濕度的負面影響；較低的相對濕度(約30%)使光刻膠附著(zhù)更加容易，甚至不需要聚合改性劑，如六甲基二硅氮烷(HMDS)。